Vật liệu in 3D kim loại nano AM Tekna Nickel Nanopowder

1. Giới thiệu chung về vật liệu in 3D kim loại nano AM Tekna Nickel Nanopowder

Vật liệu in 3D kim loại nano AM Tekna Nickel Nanopowder là dòng bột nickel nano độ tinh khiết cao, được thiết kế chuyên biệt cho các ứng dụng yêu cầu kiểm soát vật liệu nghiêm ngặt, đặc biệt là tụ gốm đa lớp (MLCC). 

Với kích thước hạt nano ổn định, phân bố hạt hẹp và khả năng kiểm soát hóa học bề mặt tốt, vật liệu này cho phép hình thành lớp điện cực Nickel siêu mỏng, đồng đều, góp phần nâng cao độ tin cậy, hiệu suất và tính lặp lại trong quá trình sản xuất MLCC.

3.1 Công nghệ xử lý độc quyền của Tekna

Công nghệ xử lý độc quyền của Tekna được xây dựng dựa trên chuỗi quy trình phân tán – phân loại – chuyển đổi dung môi đối với bột Nickel nano chưa phân loại.

Thông qua việc kiểm soát chặt chẽ từng công đoạn, các hạt Nickel nano được phân tán đồng đều, loại bỏ hạt thô và hạn chế tối đa hiện tượng kết tụ. 

Kết quả:

• Tạo ra hệ huyền phù Nickel nano có nồng độ rắn cao lên đến 85%, được chuyển trực tiếp sang dung môi theo yêu cầu của khách hàng, điển hình như DHTA
• Đảm bảo tính ổn định, khả năng phân tán và tính nhất quán cho các ứng dụng MLCC yêu cầu độ chính xác cao.

3.2 Đặc điểm chính

Nano Nickel 80 dạng huyền phù đã phân loại được phát triển nhằm đáp ứng yêu cầu khắt khe của sản xuất MLCC thế hệ mới, với khả năng kiểm soát chất lượng, độ ổn định và hiệu suất ứng dụng cao.

• Sản phẩm phân loại ướt: Quy trình phân loại ướt liên tục giúp hạn chế kết tụ và loại bỏ hạt thô, vượt trội so với phương pháp ly tâm truyền thống.
• Khả năng phân tán cao: Dễ dàng loại bỏ các hạt >300 nm, đồng thời duy trì độ ổn định và tính đồng nhất trong sản xuất.
• Phân bố kích thước hạt hẹp: Kích thước trung bình ~80 nm, D99 < 175 nm (PSD theo số lượng), đảm bảo độ chính xác khi tạo lớp điện cực Nickel.
• Độ tinh khiết cao, kiểm soát oxy & lưu huỳnh: Giúp kiểm soát hóa học bề mặt, yếu tố then chốt ảnh hưởng đến hiệu suất điện cực MLCC.
• Diện tích bề mặt riêng lớn (BET cao): Tăng độ phủ, tạo lớp Nickel mịn, cải thiện liên kết MLCC và nâng cao tỷ lệ thành phẩm.

4.1 Quy trình xử lý độc quyền của Tekna

Quy trình xử lý độc quyền của Tekna dựa trên công nghệ RF Plasma, cho phép tổng hợp bột Nickel nano trong môi trường plasma khép kín và được kiểm soát nghiêm ngặt.

Cách tiếp cận này giúp hạn chế tối đa nguy cơ nhiễm bẩn, đồng thời đảm bảo độ tinh khiết cao của vật liệu ngay từ giai đoạn hình thành hạt.

Thông qua việc kiểm soát chính xác các thông số plasma, kích thước hạt Nickel nano được duy trì ổn định trong dải 50–100 nm, đảm bảo độ đồng nhất, khả năng lặp lại và phù hợp với yêu cầu tạo lớp điện cực siêu mỏng trong MLCC và các ứng dụng vi điện tử.

Ngoài kích thước hạt, hóa học bề mặt cũng có thể được điều chỉnh theo mục tiêu sử dụng, giúp cải thiện khả năng phân tán trong paste, tối ưu quá trình thiêu kết và nâng cao hiệu suất điện, từ đó đáp ứng tốt các quy trình sản xuất công nghệ cao ở quy mô công nghiệp.

4.2 Đặc điểm chính

Nhờ ứng dụng công nghệ RF Plasma, bột Nickel nano Tekna đạt khả năng kiểm soát đặc tính vật liệu chính xác, đáp ứng yêu cầu cao về hiệu suất và độ tin cậy. Các đặc điểm kỹ thuật nổi bật bao gồm:

• Độ tinh khiết cao: Kiểm soát chặt tạp chất, đảm bảo độ ổn định trong ứng dụng MLCC và vi điện tử.
• Độ kết tinh cao: Cấu trúc tinh thể ổn định, nâng cao hiệu suất điện và độ bền điện cực.
• Hàm lượng carbon thấp: Giảm ảnh hưởng đến thiêu kết và tính chất điện.
• Hóa học bề mặt tùy chỉnh (oxy, lưu huỳnh): Tối ưu tương thích với paste và quy trình MLCC.
• Hiệu suất thu hồi cao (>90%): Tối ưu nguyên liệu, giảm hao hụt.
• Hình thái hạt cầu: Cải thiện khả năng đóng gói và tạo lớp đồng đều.
• Khả năng phân tán tốt: Hạn chế kết tụ trong dung môi và paste.
• Phân bố kích thước hạt hẹp: Đảm bảo độ đồng nhất và kiểm soát lớp điện cực.
• Sản xuất & thu gom liên tục: Phù hợp sản xuất công nghiệp, chất lượng ổn định.